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玻璃覆銅基板在微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)中的作用及光學(xué)加工要求

2025-03-31 派大星

玻璃覆銅基板(Glass Clad Copper Substrate, GCCS)是一種由特種玻璃與高純度銅層復(fù)合而成的功能化基底材料,在微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)中扮演著“多功能集成平臺(tái)”的角色。它通過(guò)結(jié)合玻璃的絕緣性、光學(xué)透明性與銅的導(dǎo)電性,為MEMS器件提供了機(jī)械支撐、電信號(hào)傳輸和光路集成的三維載體,是5G通信、光學(xué)傳感、慣性導(dǎo)航等領(lǐng)域微型化、高性能器件的核心材料。


 玻璃覆銅基板在微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)中的作用及光學(xué)加工要求

(激埃特玻璃覆銅基板

核心作用與工作原理

1. 功能集成載體

機(jī)械結(jié)構(gòu)基礎(chǔ):玻璃基板的高硬度(莫氏硬度6-7)和低熱膨脹系數(shù)(CTE≈3.3×10??/℃)為MEMS器件提供穩(wěn)定的機(jī)械支撐,避免溫度波動(dòng)導(dǎo)致的形變失效。  

電路互聯(lián)通道:表面銅層(厚度5-35μm)通過(guò)微細(xì)加工形成電路,實(shí)現(xiàn)器件間的電信號(hào)傳輸,同時(shí)玻璃介質(zhì)層(介電常數(shù)4.6@1MHz)保障高頻信號(hào)完整性。  

光路集成平臺(tái):玻璃的透光性(可見(jiàn)光透過(guò)率>90%)允許直接集成光學(xué)元件(如波導(dǎo)、反射鏡),簡(jiǎn)化光機(jī)電一體化設(shè)計(jì)。

  

 玻璃覆銅基板

(激埃特原創(chuàng)圖)

2. 典型應(yīng)用場(chǎng)景

應(yīng)用領(lǐng)域功能實(shí)現(xiàn)    
射頻MEMS銅微帶線與玻璃介質(zhì)構(gòu)成毫米波傳輸線,插入損耗<0.2dB@60GHz
光學(xué)MEMS玻璃基板直接作為光窗,集成微透鏡陣列,光耦合效率提升至90%以上 
慣性傳感器通過(guò)玻璃通孔(TGV)實(shí)現(xiàn)三維堆疊,器件體積縮小40%,信噪比提升15dB


光學(xué)加工關(guān)鍵要求

1. 表面精度標(biāo)準(zhǔn)

平整度:≤1μm/25mm(滿足SEMI微電子基板標(biāo)準(zhǔn))  

粗糙度:光學(xué)功能面Ra<0.5nm(原子力顯微鏡檢測(cè))  

微結(jié)構(gòu)精度:激光加工孔徑誤差≤±1.5μm,側(cè)壁垂直度>88°  

 

2. 光學(xué)性能參數(shù)

參數(shù)要求檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)
透射波前畸變≤λ/10@633nmISO 10110-5
應(yīng)力雙折射5nm/cmMIL-G-174B
抗激光損傷閾值5J/cm2@1064nm, 10ns脈沖ISO 21254-1


3. 核心加工技術(shù)

超精密激光加工:采用紫外激光(波長(zhǎng)355nm)實(shí)現(xiàn)微孔加工,控制熱影響區(qū)<2μm  

化學(xué)機(jī)械拋光(CMP):使用納米級(jí)二氧化硅拋光液,同步平整銅層與玻璃表面  

潔凈封裝:百級(jí)潔凈環(huán)境下完成封裝,確保表面顆?!?0個(gè)/dm2(粒徑>0.5μm)  

 微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)

(圖源網(wǎng)絡(luò),侵刪)

技術(shù)挑戰(zhàn)與發(fā)展方向

1. 當(dāng)前技術(shù)瓶頸

異質(zhì)界面控制:銅/玻璃界面結(jié)合強(qiáng)度需突破15MPa(ASTM標(biāo)準(zhǔn))  

大尺寸加工:300mm晶圓級(jí)加工良率<85%  

成本控制:高精度加工設(shè)備投入占總成本60%以上  

 微機(jī)電系統(tǒng)

(圖源傳感器專家網(wǎng),侵刪)

2. 未來(lái)趨勢(shì)

智能加工系統(tǒng):結(jié)合機(jī)器學(xué)習(xí)實(shí)時(shí)優(yōu)化激光參數(shù),加工效率提升3倍  

綠色制造:開(kāi)發(fā)無(wú)氰化物蝕刻液,降低廢水COD值90%  

跨尺度集成:實(shí)現(xiàn)納米級(jí)光學(xué)結(jié)構(gòu)與毫米級(jí)機(jī)械結(jié)構(gòu)的協(xié)同加工  

  

玻璃覆銅基板通過(guò)材料創(chuàng)新與精密加工技術(shù)的結(jié)合,正在推動(dòng)MEMS器件向更高集成度、更低功耗方向發(fā)展。隨著6G通信、量子傳感等新興領(lǐng)域?qū)ζ骷阅芤蟮奶嵘涔鈱W(xué)加工精度需求已進(jìn)入亞納米時(shí)代,未來(lái)需在異質(zhì)材料界面優(yōu)化、智能化加工裝備等領(lǐng)域持續(xù)突破。

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